EQUIPAMIENTO

•  Sistema de evaporación de capas delgadas por láser

•  Láser de Nd:YAG para evaporación de materiales (10 Hz, 300 mJ, Q:Switch)

•  Láser de Nd:vidrio GOS-1001 (energía de pulso 1000 J)

•  Láser de corte y grabado (Nd:YAG, 100 Hz, 300 mJ)

•  Láser PLC-Art para limpieza de superficies (Nd:YAG, 10 Hz, 400 mJ, Q:Switch)

•  Láser de CO₂, 20 W

•  Instalación para grabado láser PLC-Mark (láser CO₂, 25 W, XY 25 x30 cm)

•  Sistema de vacío para obtención de recubrimientos dieléctricos BUP-5  

• Láser excímero

• Láser de Nd:YAG continuo, Q:Switch, 60 W

• Medios de cómputo

Láser para limpieza de superficies PLC-Art 

Láser pulsado de alta energía GOS-1001

Instalación de crecimiento de capas delgadas por láser